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現(xiàn)貨日本otsukael大塚電子OPTM-A3 顯微分光膜厚儀

發(fā)布時(shí)間:2026/06/24 16:47:43 發(fā)布廠商:深圳市京都玉崎電子有限公司 >> 進(jìn)入該公司展臺

日本大塚電子(OTSUKA Electronics)的分析儀器依托光學(xué)測量、光散射等技術(shù),應(yīng)用于多個(gè)行業(yè)如下:


?平板顯示行業(yè)?:用于液晶顯示器、有機(jī)EL顯示器等產(chǎn)品的光學(xué)特性評價(jià)與檢查,在顯示器市場已有20年以上的成熟應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)。

?光源與照明行業(yè)?:適配LED、OLED、汽車前燈等各類光源產(chǎn)品,完成光譜、亮度、色度等參數(shù)的高精度檢測。

?半導(dǎo)體行業(yè)?:可實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體晶圓、薄膜的膜厚*測量,滿足芯片制程中的精密質(zhì)控需求。

現(xiàn)貨日本otsukael大塚電子OPTM-A3 顯微分光膜厚儀

?新材料與納米技術(shù)行業(yè)?:依托動態(tài)光散射技術(shù),完成納米顆粒粒徑、Zeta電位、聚合物分子量等物性參數(shù)的分析。

?其他延伸行業(yè)?:還可服務(wù)于高分子化學(xué)、醫(yī)藥、食品、化妝品、環(huán)境檢測等領(lǐng)域,支撐從基礎(chǔ)研發(fā)到生產(chǎn)質(zhì)控的全流程分析需求。

Zeta電位·粒徑·分子量測試系列

?ELSZneo Zeta電位/粒徑/分子量測量系統(tǒng)?

作為旗艦機(jī)型,采用動態(tài)光散射與電泳光散射技術(shù),粒徑測量范圍覆蓋0.6nm~10μm,支持0~90℃寬溫測試,還可擴(kuò)展粒子濃度測定、微流變分析等功能,適配高鹽環(huán)境下的樣品測試需求。


?nanoSAQLA 多樣品納米粒徑測試系統(tǒng)?

搭載非浸入式光學(xué)結(jié)構(gòu),無需自動取樣器即可實(shí)現(xiàn)*多5個(gè)樣品連續(xù)測量,單樣測試僅需1分鐘,粒徑測量范圍0.6nm~10μm,適配從稀薄到高濃度的各類納米樣品,廣泛應(yīng)用于高校和企業(yè)的高通量測試場景。


?ELSZ-2000ZS Zeta電位·粒徑·分子量測試系統(tǒng)?

經(jīng)典款多參數(shù)分析設(shè)備,可同步完成納米顆粒粒徑、Zeta電位、*分子量的表征,是材料、生物醫(yī)藥的常用基礎(chǔ)款儀器。


二、光散射與結(jié)構(gòu)分析系列

?DLS-8000 動態(tài)光散射光譜儀?

結(jié)合動態(tài)與靜態(tài)光散射技術(shù),可測量顆粒粒徑分布、*分子量、回轉(zhuǎn)半徑等參數(shù),支持凝膠狀態(tài)分析,適配高濃度聚合物溶液的高精度測試。


?PP-1000 聚合物相結(jié)構(gòu)分析儀?

采用小角光散射法,可原位實(shí)時(shí)分析聚合物、薄膜的亞微米至微米級結(jié)構(gòu),能捕捉聚合物相分離、結(jié)晶過程的動態(tài)變化,是高分子材料研發(fā)的設(shè)備。


三、膜厚與光學(xué)特性評估系列

?MCPD系列多通道光譜儀?

作為大塚電子的經(jīng)典核心產(chǎn)品,擁有20年以上的市場應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),用于LED、顯示面板的光學(xué)特性檢測,覆蓋從研發(fā)端到產(chǎn)線端的各類光譜測試場景。


?非接觸式光學(xué)膜厚儀系列(AT-5000、FE-5000等)?

適配半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)薄膜的高精度膜厚測量,可支持大氣、真空等復(fù)雜工況下的在線嵌入式檢測,覆蓋半導(dǎo)體前道制程的膜厚質(zhì)控需求。


?MINUK 光波動場三維顯微鏡?

2024年推出的全新設(shè)備,可非破壞性地觀測透明材料的內(nèi)部缺陷、表面形貌,無需對焦即可快速獲取三維結(jié)構(gòu)信息,適配光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體、生物細(xì)胞等觀測需求。


膜厚儀
手持式膜厚儀
otsukael大塚電子
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